China constrói protótipo de máquina para chips avançados

A China concluiu o protótipo de uma máquina capaz de gerar luz ultravioleta extrema (EUV), tecnologia essencial para fabricar chips de última geração — aqueles que alimentam sistemas de IA, supercomputadores e smartphones premium.

A novidade, revelada por uma investigação da Reuters, representa o avanço mais ousado da iniciativa chinesa de se tornar independente das empresas ocidentais de semicondutores.

O protótipo foi construído em Shenzhen por ex-engenheiros da ASML, gigante holandesa que domina o mercado de máquinas EUV. Embora o equipamento chinês ainda não tenha produzido chips funcionais, ele já opera sua própria fonte de luz EUV — um marco considerado o maior gargalo dessa tecnologia.

Um “Projeto Manhattan” para chips

A iniciativa integra o esforço nacional liderado por Xi Jinping para reduzir a dependência tecnológica externa. Internamente, autoridades chamam o plano de um Projeto Manhattan para semicondutores — uma corrida massiva, coordenada e secreta para alcançar autonomia em litografia, design e fabricação.

A operação é conduzida pelo alto escalão do governo, com coordenação direta de Ding Xuexiang, figura central no Partido Comunista, e participação ativa da Huawei e de centenas de institutos de pesquisa.

A previsão ocidental que talvez esteja errada

Em abril, o CEO da ASML afirmou que a China levaria “muitos, muitos anos” para chegar à tecnologia EUV — lembrando que sua própria empresa demorou quase 20 anos e gastou bilhões para lançar o primeiro modelo comercial em 2019.

Mas o protótipo chinês sugere outro ritmo:

A meta oficial é produzir chips funcionais até 2028;

Fontes próximas ao projeto apontam um cenário mais realista entre 2029 e 2030;

Ambos os prazos são bem antes das projeções ocidentais de uma defasagem de dez ou quinze anos.

Para analistas, se a China conseguir uma fonte de luz potente, estável e com baixo nível de contaminação — o trio de requisitos essenciais —, já terá vencido a parte mais complexa da engenharia.

Reaproveitamento de máquinas e engenharia reversa sofisticada

Boa parte do protótipo utiliza componentes retirados de versões antigas de equipamentos ASML comprados em mercados secundários.
Empresas intermediárias teriam sido usadas para mascarar o comprador final, segundo fontes.

O Instituto de Óptica de Changchun conquistou um avanço decisivo em 2025 ao integrar a luz EUV com o sistema óptico do protótipo, permitindo a operação inicial da máquina.

Uma corrida tecnológica travada também no campo político

Desde 2018, Estados Unidos e Holanda impõem restrições rígidas para bloquear o acesso da China às máquinas EUV — consideradas tecnologias altamente sensíveis.
O governo americano ampliou o bloqueio em 2022, proibindo também exportações de equipamentos de litografia avançada não-EUV para a China.

Em resposta, o país intensificou o recrutamento global de talentos, oferecendo bônus equivalentes a milhões de reais para trazer engenheiros estrangeiros. Entre as contratações, está Lin Nan, antigo responsável pela tecnologia de fontes de luz da ASML em Xangai.

A operação funciona sob forte sigilo: engenheiros utilizam identidades falsas, pseudônimos e regras estritas de acesso nos laboratórios de Shenzhen.

O que muda para o futuro do setor de chips

O protótipo não coloca a China imediatamente no mesmo patamar de TSMC, Intel ou Samsung — mas representa, pela primeira vez, um caminho realista para reduzir a dependência das máquinas ocidentais.

Se o país conseguir fabricar chips avançados sem ASML:

• o equilíbrio global de poder em tecnologia se altera;
• sanções americanas perdem eficácia;
• a China abre uma nova fronteira competitiva em IA, defesa e computação de alto desempenho.

Para o Ocidente, o relógio começou a correr mais rápido.

Para a China, é o primeiro grande sinal de que o seu “Projeto Manhattan dos chips” está funcionando.